Подпишитесь на Telegram-каналКомпания «Оптические технологии» из Академпарка Новосибирского научного центра разработала отечественный лазер, предназначенный для изготовления микросхем методом глубоко-ультрафиолетовой литографии.
Об этом сообщает ТАСС со ссылкой на разработчиков.
Устройство применяется для формирования высокоточных рисунков на тонкоплёночных материалах в процессе производства электронных компонентов. Ранее оборудование данного класса поставлялось в Россию только из-за рубежа.
Разработанный лазер обладает мощностью до 15 Вт при уровне энергопотребления менее 1 Вт. На данный момент создан опытный образец, который проходит испытания на белорусском предприятии «Планар».
Проект реализуется в рамках работ по импортозамещению в области микроэлектроники.
